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　　开首：源达

　　投资要点

　　半导体行业迎来复苏，好意思日荷制裁鼓吹开荒国产化 2024年半导体行业逐渐插足周期上行阶段，2025年行业有望迎来更快增长。 笔据SEMI预测，2024/2025年群众半导体开荒行业市集范畴为983/1128亿 好意思元，同比+3%/+15%。2022年起好意思日荷不竭发布对华开荒出口管理设施， 半导体开荒国产化旷日永久，而大陆晶圆厂有望逆势彭胀带动开荒本钱开支。

　　光刻机是半导体开荒明珠，上游零部件供应复杂且品类普通 光刻机是半导体制造中最中枢的开荒，光刻机的性能凯旋决定晶圆产线的制 程节点和产能上限。光刻机的基本结构由激光器、照明光学模组、物镜、晶圆 传输模组、晶圆扫描模组和扫描刻线模组等构成。咱们合计光刻机的中枢器 件包括激光器、光学镜头和使命台等：1）激光器是光刻机的光源，决定了光 刻机的套刻精度和工艺节点；2）光学镜头：保证光刻机光源不错精确成像在 晶圆名义，跟随光刻机技巧衍进，投影物镜结构更加复杂、尺寸增多；3）工 作台：2004年ASML将双使命台握行至TX系列光刻机，光刻机产能权贵进步。

　　光刻机市集阿斯麦一家独大，国产替代旷日永久 ASML在群众市集中一家独大，2023年ASML供给了群众92%的高端光刻机 （ArF、ArFi、EUV）。2023年6月30日荷兰对华管理设施落地，2000i以上 的光刻机型号截止出口。笔据ASML公告，2024年H1对中国大陆开荒销售收 入为42.77亿欧元，占公司光刻机销售收入的49%，同比增长142%，突显大 陆晶圆厂对光刻机的需求更生。当今光刻机国产化率确切为零，仅上海微电 子有90nm工艺节点的DUV光刻机产品。

　　光刻机国产化晨曦已现，65nm节点光刻机有望突破 近日，工信部发布《首台（套）紧要技巧装备握行愚弄陶冶目次（2024年版）》 中的电子专用装备目次下，集成电路开荒标的透露一台氟化氩光刻机，属于 DUV光刻机。光刻机永诀率≤65nm、套刻≤8nm。若按照套刻精度与量产工 艺约1：3的关系，氟化氩光刻机有望用于28nm芯片产线中的部单干艺。此外 笔据相关报谈，上海微电子正在进行28nm浸没式光刻机样机的研发分娩。

　　投资提出

　　在光刻机关节系统中，提出平和：福晶科技（光源）；富创精密、新莱应材（维权）（零 部件）；茂莱光学、波长光电（光学镜头）；华卓精科（使命台、未上市）； 上海微电子（光刻机整机、未上市）。

　　风险辅导

　　国外政事震动和摩擦加重；国内芯片产能扩产不足预期；开荒国产化导入不 及预期；上游供应链发展不足预期。

　　一、大陆晶圆厂有望逆势彭胀，开荒国产替代加快进行

　　1．半导体开荒国内需求不减，好意思日荷制裁鼓吹国产替代 2025 年群众半导体开荒销售额有望加快增长。笔据 SEMI 在 2024 年 7 月发布的《年中总 半导体开荒预测呈报》：2024 年群众晶圆厂开荒支拨将由 2023 年的 956 亿好意思元增长至 983 亿好意思元，同比增长 3%，主要系行业逐渐好转，插足周期上行阶段。瞻望 2025 年，东谈主 工智能等行业对高性能芯片需求进一步增长，重迭汽车、消耗电子和工业等行业的需求复苏， 群众晶圆厂开荒支拨有望增长至 1128 亿好意思元，达成同比增长 15%。

　　大陆晶圆厂扩产空间大，有望拉动开荒本钱开支。通过整理大陆部分晶圆厂产线开荒口头， 规划意见产能缺口超 100 万片/月。以上信息考据大陆晶圆厂对开荒需求仍然存在，2024 年国内半导体开荒需求仍然可不雅。

　　2．好意思日荷把持半导体开荒市集，国产化率正在进步 半导体开荒是高技巧门槛&高附加值行业。前谈晶圆加工的主要工序包括光刻、刻蚀和薄膜 千里积等，其性格是对晶圆加工精度条款极高，时常在几十至几百纳米；而且部单干序需要多 次进行，对开荒产能成果条款高。上述原因也导致用于前谈晶圆加工的半导体开荒价钱腾贵， 一条产能 1 万片/月的 12 英寸晶圆产线开荒投资额在数十亿元。

　　二、光刻机是半导体开荒明珠，对芯片分娩至关要紧 光刻机是半导体制造中最中枢的开荒，光刻机的性能凯旋决定晶圆产线的制程节点和产能上 限。当代光刻机时常吸收投影式光刻技巧，旨趣是将调制后的光束透过掩模板映照在涂有光 刻胶的晶圆名义，从而达成将掩膜版上的深化图等比例安逸转动至晶圆名义的光刻胶上，再 通过涂胶显影工序达成图形显形，为后续薄膜千里积、刻蚀和离子注入工序作念准备。

　　光刻机的光源决定光刻精度。光刻机的光源可分为 UVL（紫外光源）、DUV（深紫外光源） 和 EUV（极紫外光源）。其中吸收 DUV 光源的浸没式机型（ArFi）是将镜头和晶圆浸泡在 水中，而白清水的折射率为 1.44，因此 ArFi 的等效波长为 193nm/1.44=134nm，从而可 达成更高光刻精度。而 EUV 光源是将准分子激光映照在锡等靶材上，引发出 13.5nm 的光 子，主要用于 7nm 以下的制程节点，当今 ASML 是群众唯独一产物备量产型 EUV 光刻机 分娩智力的公司。

　　三、光刻机市集阿斯麦一家独大，国内需求高速增长 ASML 在群众光刻机市集一家独大。 2023 年 ASML、Nikon 和 Canon 共出货光刻机 681 台，其中 ArF、ArFi 和 EUV 型号的高端光刻机出货量为 229 台，其中 ASML 出货 210 台， 占到约 92%份额，ArFi（浸没式）光刻机共出货 134 台，出货量较 2022 年增长 50%；在 EUV 市集，ASML 是唯独具备 EUV 光刻机量产智力的公司，2023 年出货量为 53 台。

　　四、光刻机国产化晨曦已现，65nm 光刻机有望突破 上海微电子是最有望冲破光刻机入口把持的国产公司。笔据公司公众号信息，公司在 LED 系列光刻机和先进封装光刻机规模群众市占率第一，当今公司官网发布的 SSA600/20 光刻 机，吸收深紫外光源（DUV），光刻精度达 90nm。同期公司正在进行 28nm 浸没式光刻 机的研发使命，若异日获取突破，则将大大缓解光刻机的供给急切问题，助力国内锻真金不怕火制程 芯片扩产。

　　五、行业公司 1．富创精密 公司是国内半导体开荒零部件规模的领军企业，公司产品可分为工艺零部件、结构零部件、 模组产品仁爱体贬责四大品类，并已可用于光刻机、刻蚀机和薄膜千里积机等芯片制程中枢设 备中。笔据公司 2023 年年报，公司产品已通过朔方华创、中微公司等国表里头部半导体设 备企业认证，驱动批量供应。 2024 年 H1 公司达成营收 15.06 亿元，同比+81.80%；归母净利润为 1.22 亿元，同比 +27.30%。

　　六、投资提出 1．提出平和 好意思日荷集中对华半导体供应链制裁以来，上游“卡脖子”问题已得到普通爱重，开荒、材料 不竭突破，而光刻机也必将动作重心攻克口头。笔据相关报谈，上海微电子正在进行 28nm 节点光刻机的研发。假使国产光刻机得到突破，有望鼓吹半导体制造产业链国产化上前迈进 一大步，并大开光刻机及上游零部件供应的浩大市集。 在光刻机关节系统中，提出平和：福晶科技（光源）；富创精密、新莱应材（零部件）；茂 莱光学、波长光电（光学镜头）；华卓精科（使命台、未上市）；上海微电子（光刻机整机、 未上市）。

　　2．一致预测

　　七、风险辅导 国外政事震动和摩擦加重； 国内芯片产能扩产不足预期； 开荒国产化导入不足预期； 上游供应链发展不足预期。

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背负裁剪：刘万里 SF014